본 연구실은 반도체 특화 공정/측정 장비가 30대 이상 구축된 공정실(cleanroom)을 보유하고 있습니다. 반도체 광소자, 광전소자(optoelectronic device)를 제작하기 위해선 여러 종류의 반도체 제작 장비 및 특성 평가 장비가 필요합니다. 특히, 연구 목적에 따라 기판(Si, GaN, GaAs 등), 증착/식각 재료, 패턴의 크기(나노/마이크로) 등에 차이가 있으며 이에 따른 세분화된 반도체 제작/분석 장비들이 요구됩니다. 따라서 이러한 일련의 반도체 소자 제작 과정을 한번에 진행할 수 있는 공간은 계산/설계/제작/특성 평가의 연속성을 유지할 수 있고 연구의 자유도가 높아 연구 모티브 및 아이디어를 구상하는데 큰 도움이 됩니다.

 

 또한 제작된 반도체 소자의 기계/광학적 특성 평가를 위한 장비와 시스템 성능 평가를 위한 측정실을 구축하였으며, 데이터 분석 및 후처리를 할 수 있는 소프트웨어를 활용하고 있습니다. 반도체 소자는 목적에 따라 광학적/전기적 특성을 측정해야하며 소자가 포함된 시스템 평가를 할 수 있는 공간이 필요합니다. 본 측정실에서는 카메라 시스템, 홀로그램, 복사 냉각 시스템 등의 연구에 활발하게 활용되고 있습니다.​